蘇大維格激光圖形化直寫設(shè)備MiScan200前往歐洲交付調(diào)試
作者:51Touch時間:2018-12-26 來源:蘇大維格
北京時間12月26日消息,中國觸摸屏網(wǎng)訊,蘇大維格自主研發(fā)的激光圖形化直寫設(shè)備MiScan成功進入歐洲市場。近日,蘇大維格團隊帶著公司自主研發(fā)的激光圖形化直寫設(shè)備MiScan200前往歐洲交付調(diào)試,團隊?wèi){借專業(yè)的技術(shù)能力及嚴(yán)謹(jǐn)?shù)墓ぷ鲬B(tài)度深受客戶好評。
本文來自:http://www.shushumall.com/fixture/news/2018/1226/52584.html
本次向歐洲提供的MiScan激光圖形化直寫設(shè)備(8吋)省去了繁瑣的掩膜加工步驟,提供快速,高效和低成本光刻直寫制程的解決方案,尤其對于有光刻Mask外協(xié)需求的用戶來說,可以自制相應(yīng)的Mask降低成本或提升研發(fā)速度需求;本產(chǎn)品采用大功率半導(dǎo)體激光光源,長壽命、低功耗;用戶操作界面友好靈活,支持多種版圖設(shè)計格式;可根據(jù)自身的加工需求,方便靈活的選用不同的投影倍率和不同調(diào)制方式實現(xiàn)多種模式圖形制備.通用型MiScan產(chǎn)品(單次曝光0.5um分辨率光刻,支持多次曝光),支持多重對準(zhǔn)套刻(0.35um-0.5um)套刻精度和翹曲襯底(0-100微米)圖形光刻,尤其適合MEMS器件、功率器件和射頻器件等厚膠套刻。
除此之外,面向光電子、柔性電子和新材料領(lǐng)域,蘇大維格提供從4" -70"的紫外微納3D光刻直寫解決方案和高端裝備,包括支持灰度光刻(微納3D形貌)、微納混合光刻(特征結(jié)構(gòu)90nm或更小)和大面積微納圖形直寫(高速光刻)。
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