北京時間03月07日消息，中國觸摸屏網訊，中芯國際購買的ASML光刻機順利進廠，但并未非EUV光刻機！作為國內最大最先進的晶圓代工廠，中芯國際在疫情疫情期間依然沒有停產，同時還在擴大14nm等先進工藝產能。據(jù)媒體報道稱，3月4日，中芯國際從荷蘭ASML進口的一臺大型光刻機已順利進入深圳廠區(qū)。

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作為國內最大最先進的晶圓代工廠，中芯國際在疫情疫情期間依然沒有停產，同時還在擴大14nm等先進工藝產能。據(jù)媒體報道稱，3月4日，中芯國際從荷蘭ASML進口的一臺大型光刻機已順利進入深圳廠區(qū)。

中芯國際表示，坪山海關一系列服務措施，保障了設備第一時間進入廠區(qū)完成安裝進入生產。而這臺光刻機將主要用于企業(yè)復工復產后的生產線擴容。生產線擴容后，全年預計可為企業(yè)增加10%左右的營收。

據(jù)官網介紹，中芯國際深圳廠區(qū)位于深圳市坪山區(qū)，一期200mm（8英寸）芯片代工廠可提供從0.35μm到90nm的晶圓制程服務。“深圳廠的成功擴產能夠支持更多200mm產能需求，并滿足日益增長的客戶及市場的需求”。

由于相關報道并沒有提及這次中芯國際購買的光刻機的具體型號，因此也引發(fā)了一些猜測。部分網友認為這臺光刻機很可能是中芯國際之前向ASML訂購的最先進的EUV光刻機。但是，實際上這臺機器應該還是193nm波長的DUV系列光刻機。因為，中芯國際方面已經說了，這臺機器是用于現(xiàn)有的生產線擴容。而中芯國際深圳廠區(qū)目前所提供的產品主要還是0.35μm到90nm。而EUV光刻機則主要是針對7nm及以下先進工藝的生產。中芯國際訂購EUV光刻機也主要是用來進行先進工藝的試驗和測試。

3月6日下午，中芯國際方面也向媒體證實，該光刻機屬于常規(guī)設備導入，并非外界所關心的極紫外光刻機（EUV）。同時，該公司補充道：“EUV光刻機屬重大事件，相關動態(tài)將由中芯國際官方發(fā)布。”

早在2018年5月，中芯國際就證實已向荷蘭ASML訂購了一臺最新型的EUV光刻機，價值高達1.5億美元，原計劃在2019年初交付。但是由于美國方面的阻撓，ASML一直未能收到荷蘭政府頒發(fā)新的許可證，這也導致了ASML無法向中芯國際交付EUV光刻機。

 

雖然先進的EUV光刻機進口受阻，不過并沒有影響的中芯國際目前的研發(fā)和生產進展。

去年，中芯國際的14nm已經成功量產，并且在去年四季度14nm還獲得了約為769萬美元的營收。今年1月，據(jù)Digitimes報導，華為旗下海思半導體公司已經開始向中芯國際14nm工藝下單，將部分原本由臺積電獨家代工的14nm芯片轉由中芯國際代工。

此外，繼2月19日宣布采購美國泛林公司6億美元設備之后，中芯國際日前又宣布了11億美元(約合77億元)的大單——將從美國應用材料、日本東京電子公司采購設備。而這也被外界認為，這是要進一步提升14nm工藝的產能。

根據(jù)中芯國際預計，在2020年底，14nm晶圓的產能將會是目前的3~5倍，最多能達到15000片/月。

另外，對于后續(xù)的先進工藝，在此前的財報會議上，中芯國際聯(lián)席CEO梁孟松博士也首次公開了中芯國際后續(xù)的N 1、N 2工藝的情況。

梁孟松博士表示，中芯國際的N 1工藝和現(xiàn)有的14nm工藝相比，性能提升了20%，功耗降低了57%，邏輯面積縮小了63%，SoC面積減少了55%。從邏輯面積縮小的數(shù)據(jù)來看，應該是7nm工藝。梁孟松博士也表示，N 1代工藝在功耗及穩(wěn)定性上跟7nm工藝非常相似，但性能要低一些（業(yè)界標準是提升35%），所以中芯國際的N 1工藝主要面向低功耗應用的。而在N 1之后，中芯國際還會有N 2，這兩種工藝在功耗上表現(xiàn)差不多，區(qū)別在于性能及成本，N 2顯然是面向高性能的，成本也會增加。

此外，梁孟松博士還表示，在當前的環(huán)境下，N 1、N 2代工藝都不會用EUV工藝，等到設備就緒之后，N 2之后的工藝才會轉向EUV光刻工藝。這也意味著后續(xù)的7nm工藝，中芯國際無需EUV光刻機也能實現(xiàn)量產。

至于推出的時間，在此前的財報當中，梁孟松博士有提到會在2020年底開始試產，而真正的量產可能要等到2021年了。

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